EKSMA可變衰減器
- 產品型號：
- 更新時間：2023-12-21
- 產品介紹：EKSMA可變衰減器電動可變衰減器，具有ø22 mm通光孔徑，由薄膜偏振器、半波片和光學機械組成，便于安裝。波片的機動旋轉允許輸出光束的強度比的連續變化。
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產品介紹
| 品牌 | Eksma | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,電子/電池 |
EKSMA可變衰減器
用于飛秒和Nd：YAG激光脈沖的電動可變衰減器990-0072M
電動可變衰減器，具有?22 mm通光孔徑，由薄膜偏振器、半波片和光學機械組成，便于安裝。波片的機動旋轉允許輸出光束的強度比的連續變化。
將激光束分成兩束可手動調節強度比的光束，以68°角度分開
大動態范圍
透射光束偏移~1 mm
高光學損傷閾值
該可變衰減器/分束器由直徑為50.8mm的UV FS薄膜Brewster型偏振器和石英零級（光學接觸）半波片或零級空氣間隔半波片（用于高功率應用）組成，其中UV FS薄膜Brewster型偏振器反射s偏振光而透射p偏振光，并容納在分束器支架840-0056-12中，石英零級（光學接觸）半波片直徑為25.4mm（用于飛秒應用）或零級空氣間隔半波片容納在旋轉。
通過旋轉波片，可以在不改變其他光束參數的情況下連續改變這兩個分離且不同的偏振光束的強度比。可以在寬的動態范圍內控制任一出射光束的強度或它們的強度比。可以選擇P偏振用于最大透射，或者當發生透射光束的最大衰減時，可以反射高純度的S偏振。
840-0056-12運動學支架允許將薄膜布儒斯特型偏振器的入射角（Aoi）調整±4.5°，并獲得最大消光對比度。安裝件位于桿、桿固定器和可移動底座820-0090上。
光軸距臺面高度可在78~88mm范圍內調節。可以提供其他高度作為定制，將標準桿和桿固定器改為更高。
產品
For Femtosecond Laser Pulses
| CODE | WAVELENGTH | DAMAGE THRESHOLD | CONFIGURATION |
| 990-0072-343M | 343 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-343M+CP | 343 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-400M | 400 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-400M+CP | 400 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-515M | 515 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-515M+CP | 515 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-800M | 800 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-800M+CP | 800 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-800BM | 780-820 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-800BM+CP | 780-820 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-1030M | 1030 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-1030M+CP | 1030 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-1030BM | 1010-1050 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-1030BM+CP | 1010-1050 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
ForHigh Power Laser Applications
| CODE | WAVELENGTH | DAMAGE THRESHOLD | CONFIGURATION |
| 990-0072-266HM | 266 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-266HM+CP | 266 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-343HM | 343 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-343HM+CP | 343 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-400HM | 400 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-400HM+CP | 400 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-515HM | 515 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-515HM+CP | 515 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-800HM | 800 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-800HM+CP | 800 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-800HBM | 780-820 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-800HBM+CP | 780-820 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-1030HM | 1030 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-1030HM+CP | 1030 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
| 990-0072-1030HBM | 1010-1050 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
| 990-0072-1030HBM+CP | 1010-1050 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
規格
旋轉分辨率： 在全步模式下 在1/8步模式下 | 0.6 arcmin4.5 arcsec |
| 最大轉速 | 50 deg/s |
適用于Nd：YAG激光應用
| 孔徑 | 22 mm |
| 損傷閾值 | >5 J/cm2 pulsed at 1064 nm, typical |
| 偏振對比度 | >1:200 |
用于飛秒應用
| 孔徑 | 22 mm |
| 高功率激光應用的損傷閾值: | >10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical>100 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical |
| 時間分散 | t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses |
| 偏振對比度 | >1:200 |
建議的設置
| 控制器 | 980-1045 |
| 供電 | PS12-2.5-4 |
上述控制器和電源包含在衰減器套件中，代碼以“+CP "結尾。
用于Nd：YAG線性偏振激光束的可變衰減器990-0071
用于Nd：YAG線偏振激光束的可變衰減器將激光束分成兩束強度比可手動調節的光束，這兩束光束相隔68°。
將激光束分成兩束可手動調節強度比的光束，以68°角度分開
大動態范圍
透射光束偏移~0.5 mm
高光學損傷閾值
透射光束衰減范圍:0.5%-95%反射光束衰減范圍:5%-99.5%。
該可變衰減器/分束器由用于56°840-0117A或840-0118A偏振器的特殊設計的光學機械適配器和精密光學機械支架840-0197組成。薄膜布儒斯特型偏振器反射56°的s偏振光，同時透射p偏振光，它裝在56°偏振器的適配器中。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中。
通過旋轉波片，可以在不改變其他光束參數的情況下連續改變這兩個光束的強度比。可以在寬的動態范圍內控制任一出射光束的強度或它們的強度比。可以選擇P偏振用于最大透射，或者當發生透射光束的最大衰減時，可以反射高純度的S偏振。支架840-0197允許將薄膜布儒斯特型偏振器的入射角調整±2°，并獲得最大偏振對比度。
產品
| CODE | WAVELENGTH |
| 990-0071-266 | 266 nm |
| 990-0071-355 | 355 nm |
| 990-0071-532 | 532 nm |
| 990-0071-1064 | 1064 nm |
規格
| 光圈直徑 | 10 mm |
| 損傷閾值 | >5 J/cm2 pulsed at 1064 nm, typical |
| 偏振對比度 | >1:200 |
用于Nd：YAG線性偏振激光束的可變衰減器990-0070
該可變衰減器/分束器由特殊設計的光學機械適配器和精密光學機械支架840-0197組成。
將激光束分成兩個平行光束，其強度比可手動調節
大動態范圍
透射光束偏差可忽略不計
高光學損傷閾值
S-POL衰減范圍~0.25%-99.0%P-POL衰減范圍~0.5%-95.0%
該可變衰減器/分束器由特殊設計的光學機械適配器和精密光學機械支架840-0197組成。兩個反射s偏振光而透射p偏振光的薄膜布儒斯特型偏振器容納在適配器中。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中。通過旋轉波片，可以在不改變其他光束參數的情況下連續改變這兩個光束的強度比。可以在寬的動態范圍內控制任一出射光束的強度或它們的強度比。可以選擇P偏振用于最大透射，或者當發生透射光束的最大衰減時，可以反射高純度的S偏振。支架840-0197允許將薄膜布儒斯特型偏振器的入射角調整±2°，并獲得最大偏振對比度。
產品
| CODE | WAVELENGTH |
| 990-0070-266 | 266 nm |
| 990-0070-355 | 355 nm |
| 990-0070-532 | 532 nm |
| 990-0070-1064 | 1064 nm |
規格
| 光圈直徑 | 17 mm |
| 損傷閾值 | >5 J/cm2 pulsed at 1064 nm, typical |
| 偏振對比度（第一個偏振器后） | >1:200 |
| 偏振對比度（第二個偏振器后） | >1:500 |
EKSMA可變衰減器
用于Nd：YAG激光脈沖的可變衰減器990-0073
可變衰減器/分束器由帶偏振器支架的運動支架制成，配有薄膜布儒斯特型偏振器和石英半波片。
將激光束分成兩束可手動調節強度比的光束，以68°角度分開
大動態范圍
透射光束偏移~1.4 mm
高光學損傷閾值
該可變衰減器/分束器由直徑76.2mm的UV FS薄膜Brewster型偏振器和直徑40mm的石英多級半波片組成，該薄膜Brewster型偏振器反射s-偏振光而透射p-偏振光，并容納在分束器支架840-0056-13中，該石英多級半波片容納在旋轉偏振器支架840-0180-A2中，并放置在入射的線性偏振激光束中。
通過旋轉波片，可以在不改變其他光束參數的情況下連續改變這兩個分離且不同的偏振光束的強度比。可以在寬的動態范圍內控制任一出射光束的強度或它們的強度比。可以選擇P偏振用于最大透射，或者當發生透射光束的最大衰減時，可以反射高純度的S偏振。
840-0056-13運動學支架允許將薄膜布儒斯特型偏振器的入射角（Aoi）調整±4.5°，并獲得最大消光對比度。安裝件位于桿、桿固定器和可移動底座820-0090上。
光軸距臺面的高度可在92-98mm范圍內調節。可以提供其他高度作為定制，將標準桿和桿固定器改為更高。
產品
| CODE | WAVELENGTH, NM |
| 990-0073-266H | 266 |
| 990-0073-355 | 355 |
| 990-0073-532 | 532 |
| 990-0073-1064 | 1064 |
規格
| 通光孔徑 | 36 mm |
| 損傷閾值 | >5 J/cm2, 50 fs at 800 nm, typical |
| 偏振對比度 | >1:200 |
| 發射波束偏移 | ~1.4 mm |
| 體重 | 0.6 kg |
用于Nd：YAG激光脈沖的可變衰減器990-0072
可變衰減器/分束器由帶偏振器支架的運動支架制成，配有薄膜布儒斯特型偏振器和石英半波片。
將激光束分成兩束可手動調節強度比的光束，以68°角度分開
大動態范圍
透射光束偏移~1 mm
高光學損傷閾值
該可變衰減器/分束器由直徑為50.8mm的UV FS薄膜Brewster型偏振器和直徑為25.4mm的石英多階半波片組成，該薄膜Brewster型偏振器反射s偏振光而透射p偏振光，并容納在分束器支架840-0056-12中，該石英多階半波片容納在旋轉偏振器支架840-0190中，并放置在入射的線性偏振激光束中。
通過旋轉波片，可以在不改變其他光束參數的情況下連續改變這兩個分離且不同的偏振光束的強度比。可以在寬的動態范圍內控制任一出射光束的強度或它們的強度比。可以選擇P偏振用于最大透射，或者當發生透射光束的最大衰減時，可以反射高純度的S偏振。
840-0056-12運動學支架允許將薄膜布儒斯特型偏振器的入射角（Aoi）調整±4.5°，并獲得最大消光對比度。安裝件位于桿、桿固定器和可移動底座820-0090上。
光軸距臺面高度可在78~88mm范圍內調節。可以提供其他高度作為定制，將標準桿和桿固定器改為更高。
產品
| CODE | WAVELENGTH, NM |
| 990-0072-266H | 266 |
| 990-0072-355 | 355 |
| 990-0072-532 | 532 |
| 990-0072-1064 | 1064 |
規格
| 通光孔 | 22 mm |
| 損傷閾值 | >10 J/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical |
| 偏振對比度 | >1:200 |
| 發射波束偏移 | ~1 mm |
| 體重 | 0.45 kg |
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